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HA Plus® 히알루론산

HA PlusTM 히알루론산은 일반 히알루론산나트륨을 기반으로 더욱 개발된 신제품으로 일반 히알루론산나트륨과 동일한 고보습성과 고점탄성을 가질 뿐만 아니라 흡착력과 친화력이 우수하여 샴푸 및 헤어케어에 적용되고 있습니다. 제품 및 세정용 화장품의 경우 모발과 피부 표면에 직접 흡착하여 보습을 유지하며 헹굴 때 흐르는 물에 잘 씻겨 나가지 않습니다. 스킨케어 제품에 사용 시 피부가 산뜻하고 끈적임이 없고, 발림성이 우수하여 사용 후 피부에 수분을 공급하고 윤기를 주며 안색을 환하게 가꾸어 줍니다.

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위의 적외선 스펙트럼은 효소 분해법으로 제조된 히알루론산 나트륨 히알루론산 나트륨이 유럽 약전 표준 스펙트럼과 일치함을 나타내는 반면, 화학적 분해법으로 제조된 히알루론산 올리고머는 1600cm-1-100cm-1 사이의 파수를 가지며, 이는 유럽 ​​약전 표준과 일치하며 그래프가 상당히 다릅니다. 화학적 분해법으로 제조된 oligomeric hyaluronate 암석의 구조는 파괴된 반면, 효소 분해법으로 제조된 HyaoligoTM 나트륨 히알루로네이트의 구조는 손상되지 않음을 보여준다.
더 쉬운 경피 흡수를 위한 저분자량
HyaoligoTM 히알루론산 나트륨은 분자량이 10kDa 미만, 평균 크기가 25nm 미만, 셀갭이 약 40~50nm로 일반 분자량의 히알루론산에 비해 피부 깊숙이 침투하기 쉽습니다.

위의 적외선 스펙트럼은 효소 분해법으로 제조된 히알루론산 나트륨 히알루론산 나트륨이 유럽 약전 표준 스펙트럼과 일치함을 나타내는 반면, 화학적 분해법으로 제조된 히알루론산 올리고머는 1600cm-1-100cm-1 사이의 파수를 가지며, 이는 유럽 ​​약전 표준과 일치하며 그래프가 상당히 다릅니다. 화학적 분해법으로 제조된 oligomeric hyaluronate 암석의 구조는 파괴된 반면, 효소 분해법으로 제조된 HyaoligoTM 나트륨 히알루로네이트의 구조는 손상되지 않음을 보여준다.
더 쉬운 경피 흡수를 위한 저분자량
HyaoligoTM 히알루론산 나트륨은 분자량이 10kDa 미만, 평균 크기가 25nm 미만, 셀갭이 약 40~50nm로 일반 분자량의 히알루론산에 비해 피부 깊숙이 침투하기 쉽습니다.


이익
깊은 보습 : HyaoligoTM는 피부를 통해 흡수되어 표피 세포로 빠르게 수분을 공급하고 수분을 깊숙이 잠그고 수분을 보충하고 피부 수분 함량을 증가시킵니다.
피부에 영양을 공급하고 손상된 세포를 복구합니다. HyaoligoTM는 손상된 세포를 복구하고 세포 활동을 개선합니다. 상처 치유 촉진. 스킨 케어 제품에 사용하면 손상된 세포를 복구하고 피부를 부드럽고 촉촉하며 탄력있게 만듭니다.
자유 라디칼 소거, 항산화 및 노화 방지
HyaoligoTM 히알루론산 나트륨은 자유 라디칼 소거 능력과 환원 능력이 있으며 방사선 및 자외선에 의해 생성된 활성 산소 자유 라디칼(예: DPPH 자유 라디칼)을 소거할 수 있으며 멜라닌, 자외선 차단제, 미백 및 노화 방지의 형성을 감소시킵니다.


제품 설명
권장 복용량: 0.1%-1%
사용 방법: 프로필렌 글리콜, 글리세린과 같은 유기 용매에 분산하거나 물에 직접 용해하고 양이온성 방부제 및 양이온성 계면활성제와 동시 사용을 피하십시오.


깊은 보습 : HyaoligoTM는 피부를 통해 흡수되어 표피 세포로 빠르게 수분을 공급하고 수분을 깊숙이 잠그고 수분을 보충하고 피부 수분 함량을 증가시킵니다.
피부에 영양을 공급하고 손상된 세포를 복구합니다. HyaoligoTM는 손상된 세포를 복구하고 세포 활동을 개선합니다. 상처 치유 촉진. 스킨 케어 제품에 사용하면 손상된 세포를 복구하고 피부를 부드럽고 촉촉하며 탄력있게 만듭니다.
자유 라디칼 소거, 항산화 및 노화 방지
HyaoligoTM 히알루론산 나트륨은 자유 라디칼 소거 능력과 환원 능력이 있으며 방사선 및 자외선에 의해 생성된 활성 산소 자유 라디칼(예: DPPH 자유 라디칼)을 소거할 수 있으며 멜라닌, 자외선 차단제, 미백 및 노화 방지의 형성을 감소시킵니다.


제품 설명
권장 복용량: 0.1%-1%
사용 방법: 프로필렌 글리콜, 글리세린과 같은 유기 용매에 분산하거나 물에 직접 용해하고 양이온성 방부제 및 양이온성 계면활성제와 동시 사용을 피하십시오.

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